Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)

REF : 666610-25G
Marca : Sigma-Aldrich
Descrição :Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) packaged for use in deposition systems
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Descrição detalhada : Alkyl amides of Hafnium provide a convenient and effective atomic layer deposition precursor to smooth and and amorphous hafnium oxide thin films.
Sinónimos : TDMAH; Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)
Fórmula molecula r: [(CH3)2N]4Hf
Armazenamento : Room Temperature
Embalagem : 1X25G